大学实验室系统开发-大学实验室系统-普诺思(查看)

由于半导体技术的不断进步，使用计算机来对大学实验室系统进行控制，可以在很大程度上提高用户的作业效率。一方面是由于控制装置换成了数字式的，另一方面是由于大学实验室系统的热处理材料、热处理条件的多样化，要求大学实验室系统能够具有更灵活的适应能力。在热处理真空炉上安装计算机的实例也开始逐渐曾，使热处理真空炉的发展不断的加快。由于热处理材料的多样化，大学实验室系统的操作方法也变得逐渐复杂，使用计算机来控制热处理真空炉的操作，可以在一定程度上减轻操作人员的的负担，还提高了大学实验室系统的运行稳定性和产品质量。

大学实验室系统在需要气氛保护的热处理工艺中应用比较广泛，大学实验室系统包括各种可控气氛制备设备和热处理炉，现在简单介绍一下这种炉子的特点：

1、可以实现工件的无氧化脱碳加热，大学实验室系统有利于提高工件表面硬度，耐磨性和疲劳强度等力学性能，从而保证了工件的热处理质量；

2、大学实验室系统可进行渗碳、碳氮共渗、氮碳共渗，并可准确地控制钢表面的成分和渗层厚度，从而提高工业质量，缩短工艺周期，提高生产效率；

3、可以用于硅钢片脱碳退火，轧制钢带和热处理脱碳工件的复碳退火，低碳钢板冲压件的穿透渗碳等特殊的热处理工艺；

4、可以减少金属材料的烧损，减少或不留热处理后的切削加工余量，减少或取消热处理后的清理工序，大学实验室系统功能，从而降低生产成本，大学实验室系统，提高经济效益；

5、大学实验室系统改善了劳动条件，提高了劳动生产率；

6、大学实验室系统较为复杂，投资比较大，操作技术要求比较高，存在一定的不安全因素等。

大学实验室系统，包含炉**搅拌风扇，辐射管，密封前室，过渡室，加热室和等温淬火槽组成，大学实验室系统开发，炉子设计为用于中性淬火，等温淬火，渗碳，大学实验室系统软件，正火，退火和其它热处理工艺用于热处理过程中并需要在加热，保温，淬火过程在控制气氛下的**热处理设备。大学实验室系统设计有效可装载毛重5000kgs，包括工装在内。正常操作温度设计在787C-930C，大学实验室系统操作温度为950C。